光刻解决方案
在浸入光刻应用中，晶片表面的水蒸发会导致尺寸不稳定，导致成像和覆盖错误。Watlow’的集成热解决方案可以控制这些系统中的热扩展，以提高工具性能。超过 7nm,技术节点需要 EUV 光刻,Watlow 具有热解决方案，以支持锡基等离子体光源系统。
有关详细信息，请联系您的 Watlow 半导体代表。
光刻解决方案
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