Soluciones de litografía
En aplicaciones de litografía de inmersión, la evaporación de agua en la superficie de la oblea provoca una inestabilidad dimensional que produce imágenes y errores de superposición. Las soluciones ’térmicas integradasde Watlow pueden controlar la expansión térmica en estos sistemas para mejorar el rendimiento de la herramienta. Los nodos de tecnología con más de 7 nm requieren litografía de EUV y Watlow tiene soluciones térmicas para apoyar los sistemas con fuente de luz de plasma basados en estaño.
Póngase en contacto con su representante de semiconductores de Watlow para obtener más información.